205508
H01L21/308
Заявка: 2021106456, 11.3.2021
Опубликовано: 19.7.2021. Бюл. № 20
Авторы: Н.А. Брюхно, М.Ю. Котова, А.А. Малаханов, В.И. Пугачев
Патентообладатель: АО "ГРУППА КРЕМНИЙ ЭЛ"
Маска для взрывной фотолитографии
Формула полезной модели
Маска для взрывной фотолитографии, состоящая из слоя резиста для взрывной фотолитографии, фоторезиста с рисунком на обрабатываемой пластине, отличающаяся тем, что между слоем резиста для взрывной литографии и фоторезиста вводится дополнительный слой алюминия толщиной 0,2≤d≤0,3 мкм.
